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Research topics / 研究テーマ

Vacuum nanoelectronics / 真空ナノエレクトロニクス

  1. Electron emission from graphene-insulator-semiconductor-structured electron source / グラフェン-絶縁体-半導体構造電子源からの電子放出特性
  2. Electron and ion source using pyroelectric crystal with laser for X-ray and neutron generation / レーザ照射焦電体を用いた電子源・イオン源とそのX線源・中性子源応用

MEMS, NEMS/ ナノエレクトロニクスとメカニクスの融合

  1. Membrane break in atomic-force microscopy / 原子間力顕微鏡法における薄膜破壊の研究
  2. Metal detector in nano-region using magnetic force microscopy / 磁気力顕微鏡を用いたナノ領域の金属探知機の研究
  3. Self-sensing cantilever / 自己検出型カンチレバーの開発

Recent publication & presentation / 論文 & 学会発表 （更新作業中）

  1. "超小型X線源のためのレーザー照射焦電体からの電子放出過程の研究"， 若家冨士男，阿保智，高井幹夫，増澤智昭，三村秀典， 平成30年度生体医歯工学共同研究拠点成果報告会，東京，2019年3月8日
  2. "原子間力顕微鏡法における 薄膜破壊プロセスの解析 (Ⅱ)"， 石原浩行，若家冨士男，村上勝久，長尾昌善，宮戸祐治，山下隼人，阿保智，阿部真之， 第66回応用物理学会春季学術講演会，東京，2019年3月9-12日
  3. "Simulation of electron emission from laser-irradiated pyroelectric crystals", T. Komatsu, F. Wakaya, S. Abo, M. Takai, T. Masuzawa, H. Mimura, submitted to J. Vac. Sci. & Technol. B
    2017年度の4年生だった小松くんの研究成果を 英文ジャーナル論文に投稿しました。
  4. "Detection of nonmagnetic metal thin film using magnetic force microscopy", F. Wakaya, K. Oosawa, M. Kajiwara, S. Abo, M. Takai, Appl. Phys. Lett. 113, 261601 (2018).
    磁気力顕微鏡がナノ領域の金属探知に使えることを，初めて主張した論文です。 なかなか画期的です(自画自賛です)。 Appl. Phys. Lett. Editor's Pick に選ばれました。
  5. "Interaction between eddy currents induced by oscillating magnetic moment in magnetic-force microscopy", F. Wakaya and K. Oosawa, presented at 31st International Microprocesses and Nanotechnology Conference, Sapporo, Japan, November 13-16, 2018
  6. "Simulation of Electron Emission from Laser-Irradiated Pyroelectric Crystal", T. Komatsu, S. Abo, F. Wakaya, M. Takai, T. Masuzawa, H. Mimura, Technical Digest of the 31st International Vacuum Nanoelectronics Conference, pp.80-81, Kyoto, Japan, July 9-13, 2018, open at IEEE Xplore on November 5, 2018.
    焦電結晶にレーザーを照射したときの電子放出についてのシミュレーション結果を国際会議で報告しましたが， その Technical Digest が IEEE Xplore で公開されました。
  7. "Electron emission from laser-irradiated pyroelectric crystal (invited)", F. Wakaya, S. Abo, M. Takai, T. Masuzawa, H. Mimura, presented at 10th Japan-Korea Vacuum Nanoelectronics Symposium, Hachinohe, Japan, Octorber 12-14, 2018.
  8. "小型内視鏡用X線源応用のためのレーザ照射焦電結晶電子源の開発(依頼講演)", 若家冨士男, 阿保智, 高井幹夫，増澤智昭，三村 秀典， 日本学術振興会真空ナノエレクトロニクス第158委員会第124回研究会 （生体ひかりイメージング技術と応用第185委員会との合同研究会）， 浜松，2018年10月2日
  9. "原子間力顕微鏡法における薄膜破壊プロセスの解析", 石原浩行, 若家冨士男, 村上勝久, 長尾昌善, 宮戸祐治, 山下隼人, 阿保智, 阿部真之， 第79回応用物理学会秋季学術講演会，名古屋，2018年9月18-21日
  10. "磁気力顕微鏡を用いたナノ領域での非磁性金属検出における電流間相互作用", 大澤謙太, 若家冨士男， 第79回応用物理学会秋季学術講演会，名古屋，2018年9月18-21日
  11. "Simulation of Electron Emission from Laser-Irradiated Pyroelectric Crystal", T. Komatsu, S. Abo, F. Wakaya, M. Takai, T. Masuzawa, H. Mimura, presented at 31st International Vacuum Nanoelectronics Conference, Kyoto, Japan, July 9-13, 2018.
  12. "電子ビーム誘起堆積 Pt を用いた自己検出型カンチレバーの変位感度"， 樫田健汰，若家冨士男，村上勝久，山下隼人，宮戸祐治，阿保智，阿部 真之， 第65回応用物理学会春季学術講演会，東京，2018年3月17-20日
  13. "レーザー照射された焦電結晶の電子放出のシミュレーション"， 小松天太，若家冨士男，阿保智，高井幹夫，増澤智昭，三村 秀典， 第65回応用物理学会春季学術講演会，東京，2018年3月17-20日
  14. "焦電体へのレーザー照射によるX線発生過程の研究"， 増澤智昭，若家冨士男，阿保智，高井幹夫，三村秀典， 平成29年度生体医歯工学共同研究拠点成果報告会，東京，2018年3月9日
  15. "高エネルギーイオン入射によるSiでの生成電荷分布計測"， 谷健一，阿保智，若家冨士男，小野田忍，山下隼人，宮戸祐治，阿部 真之， 第78回応用物理学会秋季学術講演会，福岡，2017年9月5-8日
  16. "電子ビーム誘起堆積Ptを用いた自己検出型カンチレバーの開発"， 樫田健汰，若家冨士男，山下隼人，宮戸祐治，阿保智，阿部 真之， 第78回応用物理学会秋季学術講演会，福岡，2017年9月5-8日
  17. "ガラスキャピラリを用いた大気中粒子線励起X線放出"， 柴田悠宇，井澤和哉，阿保智，若家冨士男，山下隼人，阿部 真之， 第78回応用物理学会秋季学術講演会，福岡，2017年9月5-8日
  18. "パルスレーザー堆積/非接触原子間力顕微鏡複合装置によるLaAlO3(100)表面の観察"， 勝部大樹，山下隼人，阿保智，若家冨士男，阿部真之， 第64回応用物理学会春季学術講演会，横浜，2017年3月14-17日
  19. "CNT 電子源を用いた X 線除電装置の 除電性能の評価"(招待講演)， 若家冨士男，岡脇周平，阿保智，山下隼人，阿部真之，高井幹夫， 第14回真空ナノエレクトロニクスシンポジウム，浜松，2017年3月2-3日
  20. "Characterization of X-ray charge neutralizer using carbon-nanotube field emitter"， S. Okawaki, S. Abo, F. Wakaya, H. Yamashita, M. Abe, M. Takai, Jpn. J. Appl. Phys. 55, 06GF10 (2016)
    カーボンナノチューブを使った 電子源をX線源として使って， それを静電気の除去装置に応用した論文です。
  21. "Maskless laser processing of graphene", F. Wakaya, T. Kurihara, N. Yurugi, S. Abo, M. Abe, M. Takai, Microelectronic Eng. 141, 203-206 (2015)
    グラフェンを層数選択的に基板から取り除くことができるレーザープロセスに関する論文です。 けっこう画期的です(自画自賛です)。